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泉意光罩是一家以高(gao)階(jie)光罩研(yan)發生(sheng)產(chan)為主的高(gao)端制造型企業。

光(guang)罩(zhao)（Mask，Photomask）又稱光(guang)掩(yan)模版，是在制作芯片時作為(wei)芯片電路圖(tu)的底片以供光(guang)刻(ke)機(ji)制作IC芯片的一種光(guang)學元件(jian)，是IC芯片從設計(ji)到成品的關鍵環節。

目前(qian)泉(quan)意光(guang)罩(zhao)(zhao)有員工170余人，光(guang)罩(zhao)(zhao)技術團隊來自臺灣和大陸著名集(ji)成電路企業。公司(si)擁有全球最尖端的(de)EUV光(guang)罩(zhao)(zhao)寫(xie)入機，也(ye)是國內僅有的(de)幾臺高階EUV光(guang)罩(zhao)(zhao)寫(xie)入機，其最高制程可(ke)達7nm。廠區位于濟(ji)南市高新區臨(lin)空(kong)經(jing)濟(ji)開發區航天大道東端。

公(gong)司以7-12nm制程IC芯片用(yong)高(gao)階(jie)光(guang)罩(zhao)為主要目標，致力(li)于成為國(guo)內(nei)一流(liu)，國(guo)際知(zhi)名的(de)高(gao)階(jie)光(guang)罩(zhao)生(sheng)產企業(ye)。