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泉意光(guang)(guang)罩是一家(jia)以高階光(guang)(guang)罩研(yan)發生產(chan)為(wei)主的高端制造(zao)型企業。

光罩（Mask，Photomask）又稱光掩模版(ban)，是在制(zhi)作芯片時作為(wei)芯片電路圖的底(di)片以供光刻機(ji)制(zhi)作IC芯片的一種光學元件，是IC芯片從設計(ji)到成品的關(guan)鍵環節(jie)。

目前泉意光(guang)(guang)罩(zhao)有(you)(you)員(yuan)工170余(yu)人(ren)，光(guang)(guang)罩(zhao)技術(shu)團隊來(lai)自臺灣和大陸著名集成電路企業。公(gong)司擁有(you)(you)全球最尖端的EUV光(guang)(guang)罩(zhao)寫入(ru)(ru)機(ji)，也是國內僅(jin)有(you)(you)的幾臺高階(jie)EUV光(guang)(guang)罩(zhao)寫入(ru)(ru)機(ji)，其最高制程(cheng)可達(da)7nm。廠區位于濟(ji)(ji)南市高新區臨空經(jing)濟(ji)(ji)開(kai)發區航天大道東端。

公(gong)司以7-12nm制程(cheng)IC芯片用高(gao)階光罩(zhao)為(wei)主要目標，致力(li)于成為(wei)國內一流，國際知名的高(gao)階光罩(zhao)生產企業。