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泉意光(guang)罩(zhao)是一家以高階光(guang)罩(zhao)研發(fa)生產(chan)為(wei)主(zhu)的(de)高端制造型企業。

光(guang)(guang)罩（Mask，Photomask）又稱光(guang)(guang)掩模版，是在制作芯片(pian)(pian)時作為芯片(pian)(pian)電路圖的底片(pian)(pian)以供(gong)光(guang)(guang)刻(ke)機(ji)制作IC芯片(pian)(pian)的一(yi)種光(guang)(guang)學元件，是IC芯片(pian)(pian)從設計到成品的關鍵環節。

目前泉意光罩有員工170余人，光罩技(ji)術團(tuan)隊來自(zi)臺灣和大(da)陸著名(ming)集成(cheng)電路企業。公司(si)擁有全球最(zui)尖(jian)端(duan)的EUV光罩寫(xie)(xie)入機(ji)，也是(shi)國內僅(jin)有的幾臺高階EUV光罩寫(xie)(xie)入機(ji)，其最(zui)高制程可達(da)7nm。廠區(qu)位于濟南市(shi)高新區(qu)臨空經濟開發區(qu)航天大(da)道(dao)東端(duan)。

公司(si)以7-12nm制程IC芯(xin)片用高階(jie)光(guang)罩為主要目標，致力(li)于成為國內一(yi)流，國際知名的(de)高階(jie)光(guang)罩生產企(qi)業。